濺射是一種先進的薄膜材（cái）料製（zhì）備技（jì）術（shù）, 它利用離子源產生的離（lí）子, 在（zài）真空中加速聚集成高速離子流, 轟擊固體表麵, 離子和固體表麵的原子（zǐ）發生動能交換, 使固體表麵的（de）原子（zǐ）離開靶材並沉積在基材表麵, 從而形成納米或微米薄膜。而被轟擊的（de）固體是用濺（jiàn）射法（fǎ）沉積薄膜的原材料, 稱（chēng）為濺（jiàn）射靶材。鎢靶材和鉬靶材可在（zài）各類（lèi）基材上形成薄膜（mó）, 這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品, 如目前廣泛應用的（de）TFT - LCD ( 薄膜半導體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無機光發射二極管顯（xiǎn）示（shì）器、場發射顯示（shì）器、薄（báo）膜太陽能電池（chí）、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMOS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等（děng） 。
愛科麥可（kě）生產的鎢濺射靶材包括鎢平麵靶材和鎢旋轉靶材，以配合（hé）不同型號（hào）的（de）磁控（kòng）濺（jiàn）射設（shè）備使（shǐ）用。在使用過（guò）程中，鎢旋轉靶材的利（lì）用率遠大於鎢平麵靶材（cái）。
由於使用了熱等靜壓技術，愛科麥生產的鎢靶材（cái）的密度接近理論密度（dù），其組織均（jun1）勻性（xìng）及純度等指標（biāo）均受到了（le）客戶好評。
衡量（liàng）鎢（wū）靶材（cái）的質量主要因素有 純度、致密度、晶粒尺寸（cùn）及分布等。在這（zhè）些方麵，愛（ài）科麥投入了大量的資金和精力（lì）進行研（yán）發並取得了顯著成效。並形成了具有以（yǐ）下特點的生產工藝（1）選擇高純鎢粉作為原料（liào）; ( 2)獨有的成形（xíng）燒結（jié）技術, 以（yǐ）保證靶材（cái）的低孔（kǒng）隙率, 並控製晶粒度; ( 3)製備過程嚴格控製（zhì）雜質元素的引入。（4）大尺寸鎢鉬材料（liào）的細晶軋製技術。（5）對部分高要求產品采用熱等靜壓方法，*大程度地獲得了鎢靶材的良好性能。如（rú）此方法製得的鎢靶材獲得了18.6以上極高密度細晶粒產品。
此（cǐ）外，愛（ài）科麥生產近期致力於以下產品的研（yán）發並取（qǔ）得了突破：
1.產品（pǐn）大型化 生產出了單張尺（chǐ）寸規格為1 430mm *1 700mm *10 mm適合於G5代TFT鍍膜設（shè）備的鉬及鉬鉭靶材。對於更大的產品減少了拚接的數（shù）量。
2.為適應市場提高靶材利用率需求，正在研發製造長度超過3米的燒（shāo）結旋（xuán）轉靶材，此種方法生產的鉬靶材與噴塗法相比，具有質密的優勢。
3.新興的（de）鎢鈦靶（bǎ）材的研製