濺射是一種（zhǒng）先進的薄膜材料製（zhì）備（bèi）技術, 它利用離（lí）子源產（chǎn）生的離子, 在真（zhēn）空中加速聚集成（chéng）高速離子（zǐ）流, 轟擊固體表麵, 離子和固體表麵（miàn）的（de）原子（zǐ）發生動能（néng）交（jiāo）換, 使（shǐ）固體表（biǎo）麵的（de）原子離開靶材並沉積在基材表麵, 從（cóng）而形成納米或微米薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的（de）原材料, 稱（chēng）為濺射靶材。鎢靶材（cái）和鉬靶材可在各類基材上形成薄膜, 這種濺射膜廣泛用（yòng）作電子部件和電子產品, 如目前廣泛應用的TFT - LCD ( 薄膜半導體（tǐ）管-液晶（jīng）顯示器)、等離子顯示屏、無（wú）機光發（fā）射二極管（guǎn）顯（xiǎn）示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池（chí）、傳感器、半導體裝置（zhì）以及具有可調諧功函數CMOS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等 。
愛科麥可生產的鎢濺（jiàn）射靶材（cái）包括鎢平麵靶材和鎢旋轉靶材，以配合不同型號的磁控濺射設備使用。在使用過（guò）程中，鎢旋轉靶材的利用率遠大於鎢平（píng）麵靶材。
由於使用了熱（rè）等（děng）靜壓（yā）技（jì）術，愛科麥生產的鎢靶材的密度接近理論密度，其組織均勻性及純度等指標均受到了客戶好評。
衡量鎢靶材的質量主（zhǔ）要因（yīn）素有 純（chún）度、致密度、晶粒尺寸及（jí）分布等。在（zài）這些方麵，愛科麥投入了大量的資金和精力進行研發並取得（dé）了（le）顯（xiǎn）著成效。並形（xíng）成了具有（yǒu）以（yǐ）下特點的生產（chǎn）工藝（yì）（1）選擇高純（chún）鎢粉作為原料; ( 2)獨有的成形燒結技術, 以保證靶材的低孔隙率（lǜ）, 並控（kòng）製晶粒度; ( 3)製備過程嚴格控製雜質元素的引入。（4）大（dà）尺寸（cùn）鎢鉬材料的細晶軋製技術。（5）對部分高（gāo）要求產品采用熱等靜壓方法（fǎ），*大程度（dù）地（dì）獲得了（le）鎢靶材的良好性能。如此方法製得的（de）鎢靶材（cái）獲得（dé）了18.6以上極高密度細晶粒產品。
此外，愛科麥（mài）生產近期（qī）致力於以下產品的（de）研發並取得了突破：
1.產品大型化 生產出了單（dān）張（zhāng）尺寸規格為1 430mm *1 700mm *10 mm適合於G5代TFT鍍膜設備的鉬及鉬鉭靶材。對於更大的產品減少了拚接的數量。
2.為適應市場提高靶（bǎ）材利用率需求，正在研發製造長度超過3米的燒結旋轉靶材，此種方法生產的鉬靶材（cái）與噴塗法相比，具有質密的優勢。
3.新興的鎢鈦靶材的（de）研（yán）製