濺射是一種先進的（de）薄膜材料製備技術, 它利用離子源（yuán）產生的離子（zǐ）, 在真空中加速聚集成高速離子流, 轟擊固（gù）體表（biǎo）麵, 離子和固體表麵的（de）原子發生動能（néng）交（jiāo）換, 使固體表麵的原子離開靶材並沉積在基材表麵, 從而形成納米或（huò）微米薄膜。而被轟擊的固（gù）體是用濺射法沉積薄膜的原材料（liào）, 稱為濺射靶材。鎢靶材和鉬靶材可在各類基材上形成（chéng）薄膜, 這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產（chǎn）品, 如（rú）目前廣泛應用的TFT - LCD ( 薄膜半導體（tǐ）管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無機光發射二極管顯示器（qì）、場發射顯示器、薄膜（mó）太陽能電池、傳（chuán）感器（qì）、半導體（tǐ）裝置以及具（jù）有可調諧功函數（shù）CMOS(互補金屬氧化物半導（dǎo）體)的場效應晶體（tǐ）管柵極等 。
碳化鎢（wū）靶材多（duō）用於以磁（cí）控濺射方法（fǎ）在刀具等表麵製作超硬耐磨塗（tú）層。
碳化鎢靶材以粉末（mò）冶金（jīn）中燒結法製成，製作碳化（huà）鎢靶材中采用熱等靜壓工（gōng）藝產品效果更（gèng）佳。