濺射是一種先進的薄膜（mó）材（cái）料製備技術, 它（tā）利用離子源產生的離子, 在真空中加速聚集成高速離子流, 轟擊固體表麵, 離子和固體表麵的原子發生動能（néng）交換, 使固體表麵的原子離開靶材並沉積在基材表麵, 從而形成納米或微米薄膜。而被轟擊的固體是用（yòng）濺射（shè）法沉積薄膜的原材料, 稱為濺射靶材。鎢靶材和（hé）鉬（mù）靶（bǎ）材（cái）可在各類基材上形成薄膜, 這種濺射膜（mó）廣泛（fàn）用作電子部件（jiàn）和電子產品, 如目前廣泛應用的TFT - LCD ( 薄膜半導體管（guǎn）-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無機光發射二極管顯示器、場（chǎng）發射（shè）顯示器、薄膜太陽能電池、傳（chuán）感器、半導體裝（zhuāng）置以及具有可調諧功函數CMOS(互補金屬氧化物（wù）半導（dǎo）體)的場效應晶體管柵極（jí）等 。
愛科麥可（kě）生產的鎢濺射靶材（cái）包括鎢（wū）平麵靶（bǎ）材和鎢（wū）旋（xuán）轉靶材，以配合不同型號的磁控濺射設備（bèi）使用。在使用過程中，鎢旋轉靶材的利用率遠大於鎢平麵靶材。
由於鎢材料加工難度較大，目前我公司可生產的鎢（wū）旋轉靶材長度限於1.2米以內。
由於使（shǐ）用了熱（rè）等靜壓技術，愛科麥生產（chǎn）的鎢旋轉靶材（cái）的密度接近理論密度（dù），其組織均勻（yún）性及純度等指標均受到了客（kè）戶好評。
衡量靶材（cái）的質（zhì）量主要因素有 純度、致（zhì）密度、晶粒尺寸及分布等。在這些方麵（miàn），愛科麥（mài）投入了大量的資金和精力進行（háng）研發並取得（dé）了顯著成效。並形成了具有以下特點的生（shēng）產（chǎn）工藝（1）選（xuǎn）擇高純鎢粉作為原料; ( 2)獨（dú）有的成形（xíng）燒（shāo）結技（jì）術, 以保證靶材的低孔隙率, 並控製晶粒度; ( 3)製備過程嚴格控製雜質元素的（de）引入。（4）對部分高要求產品采用熱等靜壓方法，*大程度地獲得了（le）鎢旋（xuán）轉靶（bǎ）材的良好性（xìng）能。 此方法製（zhì）得的鎢靶材獲得了18.6以上極高密度細晶粒（lì）產品。